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Jan 7, 2021 12:07 AM ET

ドライフィルムフォトレジスト市場:メーカー、タイプ、新興技術、歴史的概要、地域、用途別 – 2026年までの研究レポート予測


ドライフィルムフォトレジスト市場:メーカー、タイプ、新興技術、歴史的概要、地域、用途別 - 2026年までの研究レポート予測

iCrowd Newswire - Jan 7, 2021

この予測期間中、 ドライフィルムフォトレジスト市場 は、2019年の41億3000万米ドルから2027年には52億9000万米ドルに上昇し、CAGRは3.1%と予測されています。市場の主な要因は、ナノデバイスの使用を増やす技術の開発です。

光抵抗性技術の普及とICおよび半導体市場における技術需要の高まりにより、ドライフィルムフォトレジスト市場は大きな成長を遂げると予想されます。ナノデバイスの需要の高まりに支えられています。フォトレジストは、表面に適用される光彫刻またはフォトリソグラフィの段階で画像化される目的のパターンを作成するために使用される光感受性材料です。半導体・IC、プリント基板、液晶などに使用されています。フォトレジスト技術の導入は、ドライフィルムフォトレジストの世界市場を牽引しています。

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報告書からのさらなる重要な調査結果は示唆している

ドライフィルムフォトレジスト市場の主要な主要プレーヤーは次のとおりです。

旭化成(日本)、JSR株式会社(日本)、東京大香工業(日本)、ダウ化学(米国)、新越化学(株)、富士フイルムエレクトロニクス材料有限公司(日本)、住友化学工業(株)、グレートイースタン樹脂工業(株)、日本(株)、日本

このレポートの目的のために、市場はカテゴリー、タイプ、実施、地域に基づいてセグメント化されています。

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カテゴリー見通し(売上高、百万米ドル、2017-2027)

タイプ見通し(売上高、百万米ドル、2017-2027)

導入見通し(収益、100万米ドル、2017-2027年)

レポートの完全な説明にアクセスするには、@ https://www.reportsanddata.com/report-detail/dry-film-photoresist-market

地域の見通し(収益、100万米ドル、2017-2027)

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